[发明专利]一种双势垒纳米硅阻变存储器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810056850.1 申请日: 2018-01-18
公开(公告)号: CN110061129B 公开(公告)日: 2022-02-15
发明(设计)人: 马忠元;谭定文;孙杨 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 210023 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种超低功耗纳米硅阻变存储器,属于非挥发性存储器技术领域。该存储器的特征在于:纳米硅基阻变层由含氢富硅碳化硅阻变层作为中间层,上下两层为相同同化学配比的含氢富碳碳化硅薄膜,阻变层上表面的条形电极和下表面的条形电极互相垂直;本发明与当前的微电子工艺技术相兼容,通过含氢碳化硅薄膜的化学配比调控,从而调节构成阻变存储器导电通道的势垒高度,进而达到调控电压,实现功率可调的功能,使纳米硅基阻变存储器可切实应用于未来的硅基纳米存储器件中。
搜索关键词: 一种 双势垒 纳米 硅阻变 存储器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.本发明涉及双势垒纳米硅阻变存储器,属于非挥发性性存储器技术领域。该存储器采用单晶硅作为衬底,其特征在于:包括附着在表面氧化的单晶硅衬底上的三明治结构纳米硅基阻变层,及分别附着在阻变层上表面和下表面的互相垂直的条形电极。
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