[发明专利]铬钽钛合金溅射靶材的制备方法、铬钽钛合金溅射靶材及应用在审
| 申请号： | 201810058427.5 | 申请日： | 2018-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN108580905A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;王学泽;吴东青 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B22F3/15 | 分类号： | B22F3/15;C23C14/34;B22F3/04;G11B5/65;G11B5/667;G11B5/73;G11B5/851 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 葛松生 |
| 地址： | 315000 浙江省宁波*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种铬钽钛合金溅射靶材的制备方法、铬钽钛合金溅射靶材及应用，涉及溅射靶材技术领域，铬钽钛合金溅射靶材的制备方法包括如下步骤：提供铬粉、钽粉和钛粉的混合物，进行冷等静压，得到胚料，然后将胚料进行真空脱气，最后将真空脱气后的胚料进行热等静压，即得到铬钽钛合金溅射靶材，改善了通过热压法或真空熔炼法制备的铬钽钛合金溅射靶材在应用时存在较大问题的技术问题，通过将铬粉、钽粉和钛粉的混合物依次经过冷等静压、真空脱气和热等静压制备得到铬钽钛合金溅射靶材，所制得的铬钽钛合金溅射靶材不仅致密度高于99％，而且成分均匀，无气孔，机加工性能优良，能够为磁介质衬底层的性能提供保证。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射靶材 钽钛合金 制备 真空脱气 胚料 冷等静压 热等静压 混合物 铬粉 钛粉 钽粉 应用 机加工性能 真空熔炼 衬底层 磁介质 热压法 保证 | ||
【主权项】：
1.一种铬钽钛合金溅射靶材的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(a)提供铬粉、钽粉和钛粉的混合物，进行冷等静压，得到胚料；(b)将胚料进行真空脱气；(c)将真空脱气后的胚料进行热等静压，即得到铬钽钛合金溅射靶材。
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