[发明专利]一种水基清洗剂及其制备方法和应用有效
申请号: | 201810058804.5 | 申请日: | 2018-01-22 |
公开(公告)号: | CN108265306B | 公开(公告)日: | 2020-02-18 |
发明(设计)人: | 薛宝龙;张临垣;郑鑫;栾海静;冉军 | 申请(专利权)人: | 北京中钞钞券设计制版有限公司 |
主分类号: | C23G1/14 | 分类号: | C23G1/14;C25D5/34 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 李静 |
地址: | 100070*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明属于清洗剂技术领域,具体涉及一种水基金属清洗剂及其制备方法和应用。该水基清洗剂包括表面活性剂,pH调节剂,水和助剂,助剂包括无水偏硅酸钠和聚氧化乙烯烷化醚,以水基清洗剂的总质量计,表面活性剂的含量为0.25%‑2.3%,聚氧化乙烯烷化醚的含量为0.1%‑0.4%,无水偏硅酸钠的含量为0.3%‑1%,pH调节剂的含量为0.2%‑1.5%;其制备方法为在加热的水中加入表面活性剂、助剂和pH调节剂,并搅拌至完全溶解。该水基清洗剂可通过一次清洗实现去除待镀金属表面的油污及脱模剂,同时可改善待镀金属表面的亲水性。 | ||
搜索关键词: | 一种 水基清 洗剂 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种水基清洗剂,包括表面活性剂,pH调节剂和水,其特征在于,还包括助剂,所述助剂包括无水偏硅酸钠和聚氧化乙烯烷化醚,以水基清洗剂的总质量计,所述表面活性剂的含量为0.25%‑2.3%,所述聚氧化乙烯烷化醚的含量为0.1%‑0.4%,所述无水偏硅酸钠的含量为0.3%‑1%,所述pH调节剂的含量为0.2%‑1.5%。
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