[发明专利]彩色滤光基板及其制作方法在审
| 申请号： | 201810060014.0 | 申请日： | 2018-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN108303817A | 公开（公告）日： | 2018-07-20 |
| 发明（设计）人： | 李兰艳 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂;闻盼盼 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种彩色滤光基板及其制作方法。本发明的彩色滤光基板的制作方法包括：步骤1、提供基底，在所述基底上形成抗反射层；步骤2、在所述抗反射层上形成彩色光阻层，所述彩色光阻层通过光刻制程制得，所述光刻制程包括涂布光阻、曝光及显影制程。通过在彩色光阻层下方设置抗反射层，在彩色光阻层的光刻制程中，由于光阻的下方设有抗反射层，因此在对光阻进行曝光的过程中，所述抗反射层能够有效吸收入射到所述抗反射层中的紫外光，并且通过相消干涉减弱从所述光阻与抗反射层的接触界面出射的反射光，进而消除光刻技术中的驻波效应、摇摆效应与凹缺效应，提高色阻单元的关键尺寸均一性和图案分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 抗反射层 彩色光阻层 彩色滤光基板 光刻制程 光阻 基底 制作 尺寸均一性 图案分辨率 光刻技术 接触界面 色阻单元 相消干涉 有效吸收 驻波效应 紫外光 曝光 反射光 凹缺 出射 入射 显影 制程 摇摆 | ||
【主权项】：
1.一种彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供基底(10)，在所述基底(10)上形成抗反射层(61)；步骤2、在所述抗反射层(61)上形成彩色光阻层(70)，所述彩色光阻层(70)通过光刻制程制得，所述光刻制程包括涂布光阻、曝光及显影制程。
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