[发明专利]真空镀膜装置

摘要

本案公开一种真空镀膜装置，包括第一腔体和第二腔体，第二腔体可移动地设置在第一腔体中并配合形成密闭空间。第一腔体中设置有镀膜系统，第二腔体上设置有卷绕系统，镀膜系统包括离子源和靶体并设置在第一腔体的内壁上，导向辊用于将第一收放卷上的待镀材料引导卷绕到第一镀膜辊和第二镀膜辊上并进一步引导至第二收放卷上或将第二收放卷上的待镀材料通过第二镀膜辊和第一镀膜辊引导至第一收放卷上。行走轮在轨道上移动以使第二腔体并入第一腔体和从第一腔体中分离。本案中的真空镀膜装置便于操作人员分离第一腔体和第二腔体进行待镀材料卷的放入和取出，减少了操作难度，提高了镀膜操作的效率。

主权项

1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括第一腔体和第二腔体，所述第二腔体可移动地设置在所述第一腔体中并配合形成密闭空间，所述第一腔体中设置有镀膜系统，所述第二腔体上设置有卷绕系统，所述镀膜系统包括离子源和靶体并设置在所述第一腔体的内壁上，所述卷绕系统包括第一收放卷、第二收放卷、镀膜辊和导向辊，所述镀膜辊包括第一镀膜辊和第二镀膜辊，所述导向辊用于将所述第一收放卷上的待镀材料引导卷绕到所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊上并进一步引导至所述第二收放卷上或将所述第二收放卷上的待镀材料通过所述第二镀膜辊和所述第一镀膜辊引导至所述第一收放卷上，所述第二腔体底部设置有行走轮，所述第一腔体上固定设置有轨道，所述行走轮在所述轨道上移动以使所述第二腔体并入所述第一腔体和从所述第一腔体中分离。