[发明专利]任意振幅整形的高损伤阈值液晶二元光学面板及其制备方法

摘要

本发明涉及一种任意振幅整形的高损伤阈值液晶二元光学面板及其制备方法，该任意振幅整形的高损伤阈值液晶二元光学面板是由第一介质膜层、第一玻璃基板、第一化学膜层、光取向膜层、液晶层、摩擦取向膜层、第二化学膜层、第二玻璃基板、第二介质膜层和间隔子边框组成。本发明利用由LED蓝光光源、阵列透镜、准直器、偏振分束棱镜、硅基板液晶空间光调制器、消色差成像系统和计算机构成的硅基板光刻系统产生任意振幅整形的二元编码图形，并将此图形刻写在液晶二元光学面板的光取向膜层上，得到任意振幅整形的高损伤阈值液晶二元光学面板。该任意振幅整形的高损伤阈值液晶二元光学面板，具有可擦写，高损伤阈值和高整形精度等特点。

主权项

1.一种任意振幅整形的高损伤阈值液晶二元光学面板，其特征在于包括第一玻璃基板(21)、第二玻璃基板(28)和间隔子边框(25)，所述的第一玻璃基板(21)、第二玻璃基板(28)分别固定在所述的间隔子边框(25)上下两侧；在所述的第一玻璃基板(21)外侧涂覆有第一介质膜层(20)，该第一玻璃基板(21)内侧由上至下依次涂覆有第一化学膜(22)和光取向膜层(23)；在所述的第二玻璃基板(28)外侧涂覆有第二介质膜层(29)，该第二玻璃基板(28)内侧由下至上依次涂覆有第二化学膜层(27)和摩擦取向膜层(26)；所述的光取向膜层(23)和摩擦取向膜层(26)之间是液晶层(24)，该液晶层(24)内充满液晶。