[发明专利]基于对称观测的VSP缝洞绕射成像技术方法有效
| 申请号： | 201810061266.5 | 申请日： | 2018-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN108375794B | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 初少林;于静;高巍;牟风明;倪轩;曹齐放;姜瑞田;崔汝国;王鸿儒;冯敏 | 申请（专利权）人： | 上海锦迪软件开发有限公司 |
| 主分类号： | G01V1/50 | 分类号： | G01V1/50 |
| 代理公司： | 济南日新专利代理事务所(普通合伙) 37224 | 代理人： | 崔晓艳 |
| 地址： | 200093 上海市杨*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于对称观测的VSP缝洞绕射成像技术方法，包括：在井中垂向等间隔布置多级检波器；激发点波场从地面开始按深度采样间隔向下外推；接收点波场从最浅接收点深度开始，按深度采样间隔向下外推，每到达某个接收点深度，就把该接收点波场加入外推波场；对每个深度采样点，接收点外推波场和激发点外推波场根据成像条件进行相关成像；所有深度采样点完成偏移成像后，对井位置分开的两个成像区域分别处理，不含激发点的成像区域作为VSP绕射波成像，含激发点的成像区域作为VSP反射波成像。该技术方法具有运行高效稳定，处理灵活方便的特点，对缝洞型储层成像具有较高的识别能力。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 对称 观测 vsp 缝洞绕射 成像 技术 方法 | ||
【主权项】：
1.基于对称观测的VSP缝洞绕射成像技术方法，其特征在于，该基于对称观测的VSP缝洞绕射成像技术方法包括：步骤1，在井中垂向等间隔布置多级检波器；步骤2，激发点波场从地面开始按深度采样间隔向下外推；步骤3，接收点波场从最浅接收点深度开始，按深度采样间隔向下外推，每到达某个接收点深度，就把该接收点波场加入外推波场；步骤4，对每个深度采样点，接收点外推波场和激发点外推波场根据成像条件进行相关成像；步骤5，所有深度采样点完成偏移成像后，对井位置分开的两个成像区域分别处理，不含激发点的成像区域作为VSP绕射波成像，含激发点的成像区域作为VSP反射波成像。
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