[发明专利]一种规则多孔石墨烯厚膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810061951.8 申请日: 2018-01-23
公开(公告)号: CN108314013B 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 高超;彭蠡;许震;郭燕 申请(专利权)人: 杭州高烯科技有限公司
主分类号: C01B32/184 分类号: C01B32/184
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 黄欢娣;邱启旺
地址: 311113 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种规则多孔石墨烯厚膜的制备方法,该石墨烯厚膜由氧化石墨烯经过滤抽成膜、缓慢低温以及高温处理得到。该石墨烯膜由石墨烯物理交联而成。石墨烯膜厚度方向的石墨烯层数在2×104~10×104之间,内部有均匀的气泡结构;表面有均匀繁多的气孔结构,气泡壁具有均匀的通气孔,孔径为100~150nm,孔隙率大于5%。这种石墨烯膜由于其多级空隙结构,在电池领域具有重要应用。
搜索关键词: 一种 规则 多孔 石墨 烯厚膜 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种规则多孔石墨烯厚膜,其特征在于,所述石墨烯膜厚度方向的石墨烯层数在2×104~10×104之间,内部具有均匀的气泡结构;气泡壁具有均匀的通气孔,孔径为100~150nm,孔隙率大于5%。
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