[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201810063223.0 申请日: 2013-08-09
公开(公告)号: CN108133934B 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 李晶粲;李承宰;姜尚范;郭大荣;金明哲;金庸淏 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L27/11;H01L27/12;H01L21/764
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 尹淑梅;刘灿强
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种半导体装置,该半导体装置包括:第一栅极图案,设置在基板的外围区域中;第二栅极图案,设置在基板的单元区域中;气隙,形成在第一栅极图案的侧壁上;以及绝缘件,形成在第二栅极图案的侧壁上,其中,气隙的介电常数与绝缘件的介电常数不同。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,所述半导体装置包括:第一栅极图案,设置在基板的外围区域中;第二栅极图案,设置在基板的单元区域中;气隙,形成在第一栅极图案的侧壁上;以及绝缘件,形成在第二栅极图案的侧壁上,其中,气隙的介电常数与绝缘件的介电常数不同。
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