[发明专利]硅片处理装置及方法有效
| 申请号： | 201810065328.X | 申请日： | 2018-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN110068989B | 公开（公告）日： | 2021-03-02 |
| 发明（设计）人： | 王刚;黄栋梁 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种硅片处理装置及方法，所述硅片处理装置包括：硅片承载台，用于硅片吸附固定与硅片的移动或转动；硅片吸附交接机构，用于实现硅片的精确交接；预对准镜组，与所述硅片承载台配合实现硅片的定心和定向；边缘曝光镜组，与硅片承片台配合实现硅片不同位置的曝光；光阑和光阑切换轴，用于根据边缘曝光需要调整曝光视场的大小；通过所述硅片吸附交接机构实现硅片定心定向过程中硅片的精确交接，通过所述硅片承载台、所述边缘曝光镜组和所述光阑切换轴实现硅片的全覆盖曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种硅片处理装置，其特征在于，所述硅片处理装置包括：硅片承载台，用于硅片吸附固定与硅片的移动或转动；硅片吸附交接机构，用于实现硅片的精确交接；预对准镜组，与所述硅片承载台配合实现硅片的定心和定向；边缘曝光镜组，与硅片承片台配合实现硅片不同位置的曝光；光阑和光阑切换轴，用于根据边缘曝光需要调整曝光视场的大小；所述硅片承载台在X向、Y向、Rz向可活动，所述X向、Y向互相垂直，所述Rz向为以Z向为轴旋转，所述Z向垂直所述X向、所述Y向所在平面，所述光阑设置在所述硅片承载台上方，所述光阑切换轴在S向对光阑尺寸进行切换，所述S向平行所述X向，通过所述硅片吸附交接机构实现硅片定心定向过程中硅片的精确交接，通过所述硅片承载台、所述边缘曝光镜组和所述光阑切换轴实现硅片的全覆盖曝光。
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