[发明专利]一种N型异质结双面太阳能电池的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810065362.7 申请日: 2018-01-23
公开(公告)号: CN108172658B 公开(公告)日: 2019-07-09
发明(设计)人: 屈小勇;董鹏;程基宽;倪玉凤 申请(专利权)人: 国家电投集团西安太阳能电力有限公司
主分类号: H01L31/0747 分类号: H01L31/0747;H01L31/20
代理公司: 上海硕力知识产权代理事务所(普通合伙) 31251 代理人: 郭桂峰
地址: 710100 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种N型异质结双面太阳能电池的制备方法,包括以下步骤:S1:提供N型硅片基体;S2:对N型硅片基体进行双面制绒;S3:在N型硅片基体的正面形成n+轻掺杂层;S4:对N型硅片基体的背面进行腐蚀并清洗;S5:通过一个工艺步骤在N型硅片基体正面的n+轻掺杂层上依次形成正面本征非晶硅层和N型掺杂非晶硅层;S6:通过一个工艺步骤在N型硅片基体的背面依次形成背面本征非晶硅层和P型掺杂非晶硅层;S7:在N型硅片基体的正面和背面形成TCO薄膜;S8:在N型硅片基体的背面形成正电极,并在其正面形成负电极。该方法易于获得良好的表面钝化效果并解决了现有技术中不利于用作太阳电池正面的窗口层的问题,有利于提高电池的转换效率。
搜索关键词: 背面 双面太阳能电池 本征非晶硅层 工艺步骤 轻掺杂层 异质结 制备 表面钝化效果 转换效率 窗口层 负电极 正电极 制绒 清洗 电池 腐蚀
【主权项】:
1.一种N型异质结双面太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:提供N型硅片基体;S2:对所述N型硅片基体进行双面制绒;S3:在所述N型硅片基体的正面形成n+轻掺杂层;S4:对N型硅片基体的背面进行腐蚀并清洗,去除绕扩到背面的n+轻掺杂层和正面扩散形成的PSG;S5:通过一个工艺步骤在N型硅片基体正面的n+轻掺杂层上依次形成正面本征非晶硅层和N型掺杂非晶硅层;S6:通过一个工艺步骤在N型硅片基体的背面依次形成背面本征非晶硅层和P型掺杂非晶硅层;S7:在N型硅片基体的正面和背面形成TCO薄膜;S8:在N型硅片基体的背面形成正电极,并在N型硅片基体的正面形成负电极。
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