[发明专利]一种能调整足底平衡的鞋垫及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810066770.4 申请日: 2018-01-24
公开(公告)号: CN108095248A 公开(公告)日: 2018-06-01
发明(设计)人: 杨峰;赵碎浪;于百计;李季;申利华;张然 申请(专利权)人: 北京服装学院
主分类号: A43B17/00 分类号: A43B17/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 张德斌;姚亮
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种能调整足底平衡的鞋垫及其制备方法,所述鞋垫包括本体(6)包括底部的平面部分(62),鞋垫本体(6)在内纵弓部位沿人足部内纵弓部位表面向上弯曲形成弧形内纵弓包裹(611),在足跟部位围绕足跟部位后端沿人足部足根部位后端表面向上弯曲形成脚跟U形包裹(612),外纵弓部位沿人足部外纵弓表面向上弯曲形成外纵弓包裹(613);足跟踵心部位外侧设置足跟部外凹槽(7),足跟踵心部位内侧设置足跟部内凹槽(8),前掌着地部位设置前掌凹槽(12);内纵弓包裹(611)外表面设置内纵弓凹槽(9);在上述各凹槽中分别设置足跟外衬垫(1)、足跟内衬垫(2)、前掌衬垫(5)和内纵弓衬垫(3),衬垫厚度不低于分别对应的凹槽深度。
搜索关键词: 足跟 向上弯曲 鞋垫 前掌 人足 足跟部 足底 制备 部位表面 外侧设置 鞋垫本体 着地部位 端表面 弓凹槽 内凹槽 内衬垫 外凹槽 足根部 端沿 平衡 脚跟
【主权项】:
1.一种能调整足底平衡的鞋垫,其特征在于,所述鞋垫包括本体(6),本体(6)包括底部的平面部分(62)(优选本体(6)的平面部分(62)厚度为2-4mm;更优选为3mm),鞋垫本体(6)在内纵弓部位沿人足部内纵弓部位表面向上弯曲形成与人足部内纵弓部位表面配合的弧形内纵弓包裹(611),在足跟部位围绕足跟部位后端沿人足部足根部位后端表面向上弯曲形成与人足部足跟部位后端表面配合的脚跟U形包裹(612),在外纵弓部位沿人足部外纵弓表面向上弯曲形成与人足部外纵弓表面配合的外纵弓包裹(613);平面部分(62)的足跟踵心部位外侧设置足跟部外凹槽(7),平面部分(62)的足跟踵心部位内侧设置足跟部内凹槽(8)(优选足跟部外凹槽(7)和足跟部内凹槽(8)的深度贯穿鞋垫本体)(优选足跟部外凹槽(7)和/或足跟部内凹槽(8)的后端轮廓线与平面部分(62)后端轮廓线距离为2-4mm(优选为3mm))(优选足跟部外凹槽(7)和足跟部内凹槽(8)以平面部分(62)足跟部位中心位置为中心,覆盖平面部分(62)足跟部位面积2/5-4/5),平面部分(62)的前掌着地部位设置前掌凹槽(12);在内纵弓包裹(611)的外表面设置内纵弓凹槽(9)(优选内纵弓凹槽(9)的深度为1-2mm)(优选所述内纵弓凹槽(9)的上边缘(91)与内纵弓包裹的上边缘(6111)距离为1.5-2.5mm,更优选为2mm)(优选内纵弓凹槽覆盖人足部内纵弓部位的内纵弓包裹(611)面积的1/2-9.5/10;更优选为3/5-9/10);并在上述足跟部外凹槽(7)中设置足跟外衬垫(1)、足跟部内凹槽(8)中设置足跟内衬垫(2)、前掌凹槽(12)设置前掌衬垫(5)(优选各衬垫分别与各自相对应的凹槽的轮廓相匹配),内纵弓凹槽(9)中设置内纵弓衬垫(3)(优选内纵弓衬垫(3)的最低厚度为4-6mm)(可选的,足跟部外凹槽(7)、足跟部内凹槽(8)、前掌凹槽(12)是开设在所述本体(6)的下底面),且各衬垫厚度大于或等于各衬垫分别对应的凹槽深度。
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