[发明专利]一种判断光栅尺参考点绝对位置的装置及方法有效
申请号: | 201810069463.1 | 申请日: | 2018-01-24 |
公开(公告)号: | CN108151658B | 公开(公告)日: | 2023-08-11 |
发明(设计)人: | 李星辉;周倩;肖翔;倪凯;王欢欢;冒新宇;曾理江;苏晓;王晓浩 | 申请(专利权)人: | 清华大学深圳研究生院 |
主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 方艳平 |
地址: | 518055 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种判断光栅尺参考点绝对位置的装置及方法,该装置包括光源、分束镜、参考点掩膜、参考点编码带、光电探测器和信号处理计算机,参考点掩膜包括多个宽度相等的第一矩形块,多个第一矩形块沿其自身的宽度方向等间距排列;参考点编码带包括多组参考点组,每组参考点组包括两个参考点编码区,每个参考点编码区包括多个宽度相等的第二矩形块,多个第二矩形块沿其自身的宽度方向等间距排列,两个参考点编码区沿着第二矩形块的宽度方向间隔排列,多组参考点组沿着第二矩形块的宽度方向等间距排列,第一矩形块和第二矩形块均能够吸收或反射光线。本发明避免了光栅尺增量位移误差和参考点检测误差的干扰,提高了参考点绝对位置判断的可靠性。 | ||
搜索关键词: | 一种 判断 光栅尺 参考 绝对 位置 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种判断光栅尺参考点绝对位置的装置,其特征在于,包括光源、分束镜、参考点掩膜、参考点编码带、光电探测器和信号处理计算机,其中:所述光源发出的光束入射到所述分束镜并经过所述分束镜反射后,穿过所述参考点掩膜的透光区域照射到所述参考点编码带后,被所述参考点编码带的反射区域反射后再穿过所述参考点掩膜的透光区域并透过所述分束镜照射到所述光电探测器上,所述光电探测器将采集到的信号发送给所述信号处理计算机;所述参考点掩膜包括多个宽度相等的第一矩形块,多个所述第一矩形块沿其自身的宽度方向等间距排列;所述参考点编码带包括多组参考点组,每组所述参考点组包括两个参考点编码区,每个所述参考点编码区包括多个宽度相等的第二矩形块,多个所述第二矩形块沿其自身的宽度方向等间距排列,两个所述参考点编码区沿着所述第二矩形块的宽度方向间隔排列,多组所述参考点组沿着所述第二矩形块的宽度方向等间距排列,且所述第一矩形块和所述第二矩形块均能够吸收或反射光线。
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