[发明专利]一种耐折叠高阻隔复合包装薄膜的磁控溅射制备工艺在审
| 申请号： | 201810069708.0 | 申请日： | 2018-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN108265276A | 公开（公告）日： | 2018-07-10 |
| 发明（设计）人： | 王超楠;任达森;张朝珍;罗笙芸;鲁听;杨吟野;黄宝进 | 申请（专利权）人： | 贵州民族大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/12;C23C14/06;C23C14/02 |
| 代理公司： | 贵阳中新专利商标事务所 52100 | 代理人： | 商小川 |
| 地址： | 550025 贵*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种耐折叠高阻隔复合包装薄膜的磁控溅射制备工艺，其特征在于：包含如下步骤：(1)基材的准备；(2)将基材送入预溅射真空箱进行预溅射清洗，预溅射气体为99.95％‑99.99％氩气，预溅射功率加大速率为0.1‑6W小时/平方厘米，溅射时间为30‑500秒；(3)开启射频电源，在预溅射基体上进行多靶材同时沉积制备复合高阻膜，其中，经过预溅射的基材缠绕在滚筒表面固定，真空室的真空度控制在0.1‑10×10‑5Pa，工作气体为氩气或者氩氧混合气，氩气纯度为99.95％‑99.99％，气流量为10‑450sccm，氧气纯度为99.95％‑99.999％，气流量为0.5‑100sccm，工作气压控制为0.2‑2Pa，靶基距为4‑16cm，滚筒旋转速度控制为0.5‑10m/分，溅射时间为5‑300分钟。 | ||
| 搜索关键词： | 预溅射 基材 复合包装薄膜 氩气 磁控溅射 制备工艺 高阻隔 气流量 折叠 溅射 真空度控制 氩氧混合气 工作气体 工作气压 滚筒表面 滚筒旋转 平方厘米 射频电源 速度控制 氧气纯度 氩气纯度 靶基距 真空室 真空箱 多靶 高阻 沉积 制备 缠绕 清洗 送入 复合 | ||
【主权项】：
1.一种耐折叠高阻隔复合包装薄膜的磁控溅射制备工艺，其特征在于：包含如下步骤：(1)基材的准备；(2)将基材送入预溅射真空箱进行预溅射清洗，预溅射气体为99.95％‑99.99％氩气，预溅射功率加大速率为0.1‑6W小时/平方厘米，溅射时间为30‑500秒；(3)开启射频电源，在预溅射基体上进行多靶材同时沉积制备复合高阻膜，其中，经过预溅射的基材缠绕在滚筒表面固定，真空室的真空度控制在0.1‑10×10‑5Pa，工作气体为氩气或者氩氧混合气，氩气纯度为99.95％‑99.99％，气流量为10‑450sccm，氧气纯度为99.95％‑99.999％，气流量为0.5‑100sccm，工作气压控制为0.2‑2Pa，靶基距为4‑16cm，滚筒旋转速度控制为0.5‑10m/分，溅射时间为5‑300分钟；所述的多靶材共溅射为以高分子聚合物为靶材，将其与无机靶材、无机氧化物靶材中一种或者两种组成双靶材或者三靶材同时溅射。
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