[发明专利]压电陶瓷响应频率的非接触式测量装置及测量方法有效
| 申请号： | 201810073785.3 | 申请日： | 2018-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN108318736B | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 白震;魏劲松 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01R23/02 | 分类号： | G01R23/02 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 不同负载下压电陶瓷响应频率的非接触式测量装置及测量方法，包括聚焦光路的构建，自动检测算法的实现，对不同负载下压电陶瓷响应频率的测量，数据的记录和分析等步骤。通过激光器、聚焦物镜、光电探测器等构建一个聚焦光路。当压电陶瓷搭载不同的负载进行周期性移动的时候，分析光电探测器上信号的变化频率实现对压电陶瓷在不同负载下响应频率的检测。本发明简单实用，操作便捷，干扰小，实现了在非接触式的情况下对压电陶瓷在不同负载下响应频率的测量，具有很高的应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 压电 陶瓷 响应 频率 接触 测量 装置 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种不同负载下压电陶瓷响应频率的非接触式测量装置，其特征在于，包括计算机(1)、控制器(2)、激光器(3)、扩束准直器(4)、1/2波片(5)、光电探测器(6)、小孔装置(7)、第二聚焦物镜(8)、偏振分光棱镜(9)、1/4波片(10)、反射镜(11)、手动调焦装置(12)、固定在压电陶瓷(13)上的第一聚焦物镜(14)，以及供铝膜样品(15)放置的二维电机位移平台(16)；所述的激光器(3)发出蓝光，依次经过扩束准直器(4)、1/2波片(5)、偏振分光棱镜(9)和1/4波片(10)后，经反射镜(11)反射之后入射到第一聚焦物镜(14)，最后聚焦到反射样品(15)上，经反射样品(15)反射后，沿原光路返回入射至偏振分光棱镜(9)，经偏振分光棱镜(9)反射，经第二聚焦物镜(8)汇聚后穿过小孔装置(7)到达光电探测器(6)；所述的小孔装置(7)位于第二聚焦物镜(8)的焦点处；所述的小孔装置(7)的直径范围为0‑50um；所述的手动调焦装置(12)用于调节第一聚焦物镜(14)的位置；所述光电探测器(6)的输出端与所述控制器(2)的输入端相连，该控制器(2)的输出端分别与压电陶瓷(13)和二维电机位移平台(16)相连，且该控制器(2)与所述计算机(1)进行通讯。
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