[发明专利]多孔主体的通过原子层沉积的抗等离子体涂层在审
| 申请号： | 201810074077.1 | 申请日： | 2018-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN108623328A | 公开（公告）日： | 2018-10-09 |
| 发明（设计）人： | V·菲鲁兹多尔;S·班达;R·丁德萨;D·卞;D·M·勒夫尔 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C04B41/87 | 分类号： | C04B41/87;C04B41/85;C04B41/89;H01L21/683;C23C16/455;C23C16/40 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;金红莲 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了多孔主体的通过原子层沉积的抗等离子体涂层。本文描述了使用原子层沉积(ALD)工艺将抗等离子体涂层沉积到多孔腔室部件的表面上并沉积到所述多孔腔室部件内的孔隙壁上的制品、系统和方法。多孔腔室部件可以包括多孔主体，多孔主体包括多孔主体内的多个孔隙，多个孔隙各自包括孔隙壁。多孔主体对气体是可渗透的。抗等离子体涂层可以包含Y2O3‑ZrO2固溶体并且可以具有约5nm至约3μm的厚度，并且可以保护孔隙壁不受侵蚀。具有抗等离子体涂层的多孔主体保持对气体是可渗透的。 | ||
| 搜索关键词： | 多孔主体 等离子体涂层 原子层沉积 多孔腔室 孔隙壁 可渗透 沉积 固溶体 侵蚀 | ||
【主权项】：
1.一种制品，包括：多孔主体，包括所述多孔主体内的多个孔隙，所述多个孔隙各自包括孔隙壁，其中所述孔隙主体对气体是可渗透的；和抗等离子体涂层，处于所述多孔主体的表面上并且处于所述多孔主体内的所述多个孔隙的所述孔隙壁上，所述抗等离子体涂层具有约5nm至约3μm的厚度，其中所述抗等离子体涂层保护所述孔隙壁不受侵蚀，并且其中具有所述抗等离子体涂层的所述多孔主体保持对所述气体是可渗透的。
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