[发明专利]一种检测氧化铟锡薄膜关键尺寸的装置在审

专利信息
申请号: 201810074337.5 申请日: 2018-01-25
公开(公告)号: CN108332659A 公开(公告)日: 2018-07-27
发明(设计)人: 邹雨佑 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00
代理公司: 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 代理人: 潘中毅;熊贤卿
地址: 518000 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供一种检测氧化铟锡薄膜关键尺寸的装置,包括白光光源、中部棱镜、物镜和成像模块,还包括位于白光光源与中部棱镜之间并固定于所述白光光源上的滤波片,该滤波片用以将白光光源所发白光转变成预定颜色光后经中部棱镜及物镜照射在待测ITO薄膜上,使得待测ITO薄膜边界的灰阶度增强。实施本发明,能够在量测过程中改变白光照射来增强装置获取ITO薄膜边界的灰阶度,从而提高ITO薄膜抓边几率。
搜索关键词: 白光光源 棱镜 氧化铟锡薄膜 灰阶度 滤波片 种检测 物镜 照射 预定颜色光 成像模块 增强装置 发白光 白光 量测
【主权项】:
1.一种检测氧化铟锡薄膜关键尺寸的装置,包括白光光源(1)、中部棱镜(2)、物镜(3)和成像模块(4),其特征在于,还包括位于所述白光光源(1)与所述中部棱镜(2)之间并固定于所述白光光源(1)上的滤波片(5),所述滤波片(5)用以将所述白光光源(1)所发白光转变成预定颜色光后经所述中部棱镜(2)及所述物镜(3)照射在待测ITO薄膜(7)上,使得所述待测ITO薄膜(7)边界的灰阶度增强。
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