[发明专利]一种黑色聚酰亚胺薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 201810074441.4 | 申请日： | 2018-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN108341950A | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 无锡创彩光学材料有限公司 |
| 主分类号： | C08G73/10 | 分类号： | C08G73/10;C08K3/04;C08J5/18;C08L79/08 |
| 代理公司： | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人： | 殷红梅;任月娜 |
| 地址： | 214161 江苏省无锡市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种黑色聚酰亚胺薄膜的制备方法，采用原料二元胺和等摩尔比的二元酐在强极性溶剂中制备得到聚酰胺酸溶液，加入含氨基有机硅氧烷对聚酰胺酸进行改性，然后加入聚酰胺酸质量1~5%的炭黑，将加入了炭黑的聚酰胺酸溶液成膜后经亚胺化制备得到黑色聚酰亚胺薄膜。本发明制备方法简单，步骤易于操作，采用本发明制备得到的黑色聚酰亚胺薄膜光屏蔽性好、光泽度好、薄膜无通孔，炭黑分散均匀、稳定，具有高遮盖性、耐水性能、耐化学品性能、高模量、低收缩的特点，能够广泛应用电子线路板用覆铜膜、覆盖膜以及绝缘膜。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 聚酰亚胺薄膜 炭黑 聚酰胺酸溶液 聚酰胺酸 耐化学品性能 氨基有机硅 强极性溶剂 等摩尔比 分散均匀 光屏蔽性 耐水性能 应用电子 线路板 低收缩 二元胺 二元酐 覆盖膜 高模量 光泽度 绝缘膜 亚胺化 遮盖性 成膜 覆铜 改性 通孔 氧烷 薄膜 | ||
【主权项】：
1.一种黑色聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于：采用二元胺和等摩尔比的二元酐为原料在强极性溶剂中制备得到聚酰胺酸溶液，加入含氨基有机硅氧烷对聚酰胺酸进行改性，然后加入原料质量1～5％的炭黑分散液，将加入了炭黑分散液的聚酰胺酸溶液成膜后经亚胺化制备得到黑色聚酰亚胺薄膜。
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