[发明专利]一种基于惰性离子注入法提升熔石英损伤阈值的方法在审
| 申请号： | 201810074811.4 | 申请日： | 2018-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN108238725A | 公开（公告）日： | 2018-07-03 |
| 发明（设计）人： | 祖小涛;黎波;向霞;田成祥 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00;C03C21/00 |
| 代理公司： | 成都正华专利代理事务所(普通合伙) 51229 | 代理人： | 何凡 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于惰性离子注入法提升熔石英损伤阈值的方法，具体操作流程为：用去离子水冲洗光学抛光后的熔石英元件，然后将元件放入无水乙醇中进行超声清洗；元件清洗完成后，用HF‑NH4F缓冲溶液对其进行刻蚀处理，再先后用去离子水和无水乙醇清洗刻蚀后的元件；最后用能量为10keV～50keV的含能惰性离子束对元件进行离子注入处理，注量为1×1016ions/cm2～5×1017ions/cm2。采用本发明的方法，可有效解决常规方法很难在熔石英表面形成压应力层的技术问题，以进一步提升元件的激光损伤阈值。 | ||
| 搜索关键词： | 熔石英 惰性离子 去离子水 注入法 刻蚀 损伤 无水乙醇清洗 惰性离子束 表面形成 操作流程 超声清洗 光学抛光 缓冲溶液 激光损伤 提升元件 无水乙醇 压应力层 有效解决 放入 冲洗 离子 清洗 | ||
【主权项】：
1.一种基于惰性离子注入法提升熔石英损伤阈值的方法，其特征是，包括以下步骤：(1)元件前处理：将熔石英元件超声清洗后，放入HF‑NH4F缓冲溶液中进行刻蚀处理，刻蚀时间5～15min；(2)二次清洗：先用去离子水清洗刻蚀后的熔石英元件，再将其放入无水乙醇中进行脱水处理；(3)惰性离子注入：用含能惰性离子束对经过步骤(2)处理后的熔石英元件进行离子注入；离子注入能量为10keV～50keV，注量为1×1016ions/cm2～5×1017ions/cm2。
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