[发明专利]极紫外光光罩容器有效
申请号: | 201810075239.3 | 申请日: | 2018-01-25 |
公开(公告)号: | CN108375872B | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
发明(设计)人: | 薛新民;莊家和;李承儒;黄政杰 | 申请(专利权)人: | 家登精密工业股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
代理公司: | 深圳市智享知识产权代理有限公司 44361 | 代理人: | 马静 |
地址: | 中国台湾新北市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种光罩容器,用于容设极紫外光光罩。光罩容器包括外盒总成及内盒总成,外盒总成用以容置内盒总成。内盒总成包括基座以及上盖。基座具有上表面及周缘,上表面设有多个定位件以界定出光罩承载位置。周缘连接并且围绕上表面。上表面包括承载面、沟槽及第一接面。光罩设置于光罩承载位置,以承载在承载面上。沟槽具连续环状结构,底部低于承载面。承载面、沟槽及第一接面依序由上表面内侧朝周缘配置。上盖具有凹腔及第二接面。凹腔用于容纳光罩,第二接面与第一接面配合以形成密封状态。基座上利用连续环状结构的沟槽来捕获或容置微粒,降低微粒移动到承载面与光罩间的机会,减缓光罩被微粒污染的问题。 | ||
搜索关键词: | 紫外 光光 容器 | ||
【主权项】:
1.一种极紫外光光罩容器,其特征在于,包括:外盒总成及内盒总成,所述外盒总成包括相互配合的上部分及下部分,从而界定出容置空间,用于容置所述内盒总成,所述内盒总成包括:基座,具有上表面及周缘,所述上表面设有凸出的多个定位件,界定出光罩承载位置,所述周缘连接且围绕所述上表面,所述上表面包括:承载面,极紫外光光罩用以设置于所述光罩承载位置,从而被承载在所述承载面上;沟槽,具连续环状结构,所述沟槽的底部低于所述承载面;及第一接面,所述承载面、所述沟槽及所述第一接面依序由所述上表面的内侧朝所述周缘配置;以及上盖,用以与所述基座对接,并且具有凹腔及第二接面,所述凹腔用以容纳所述极紫外光光罩,所述第二接面与所述第一接面相配合,用于形成密封状态。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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