[发明专利]一种用于直写式真空蒸发系统的阶梯式准直管结构有效
| 申请号： | 201810078456.8 | 申请日： | 2018-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN108385057B | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 张震;柳铮;闫鹏;鲁帅帅 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/50;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 张建纲 |
| 地址： | 100084*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种应用于直写式真空蒸发系统的防掩模孔堵塞及避免粒子散射现象的新型阶梯式准直管结构。所述阶梯式准直管结构包括：基座，掩模片，准直管；第一粒子反射阻挡台阶，所述第一粒子反射阻挡台阶处于准直管内上部，并与准直管上表面、第二粒子反射阻挡台阶上表面相连；第二粒子反射阻挡台阶，所述第二粒子反射阻挡台阶处于准直管内中部，并与第一粒子反射阻挡台阶下表面、准直孔上表面相连；准直孔，所述准直孔处于准直管内下部，并与第二粒子反射阻挡台阶下表面、准直管下表面相连。本发明实施例的直写式真空蒸发系统具有结构紧凑、加工速度快、掩模使用寿命长、加工特征边缘清晰、可避免粒子散射、节约材料、加工纯度高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 直写式 真空 蒸发 系统 阶梯 式准直管 结构 | ||
【主权项】：
1.一种用于直写式真空蒸发系统的掩模防孔堵塞及避免粒子散射的阶梯式准直管结构，其特征在于，包括：基座；掩模片，所述掩模片位于基座的上表面中心位置，其上表面与基座上表面等高，采用真空胶固定；准直管，所述准直管位于基座下表面中心，与基座下表面垂直，采用螺纹配合固定；准直机构包括反射阻挡台阶和准直孔，粒子反射阻挡台阶，用于防止真空蒸发出的粒子流击打到准直管内壁后反射至掩模孔导致掩模孔堵塞。准直孔，用于初步筛选准直的粒子流，从而抑制粒子散射现象。第一粒子反射阻挡台阶，所述第一粒子反射阻挡台阶处于准直管内上部，并与准直管上表面、第二粒子反射阻挡台阶上表面相连；第二粒子反射阻挡台阶，所述第二粒子反射阻挡台阶处于准直管内中部，并与第一粒子反射阻挡台阶下表面、准直孔上表面相连；准直孔，所述准直孔处于准直管内下部，并与第二粒子反射阻挡台阶下表面、准直管下表面相连。
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