[发明专利]一种掩模图案绘制装置及绘制方法在审
| 申请号： | 201810081419.2 | 申请日： | 2018-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN110091648A | 公开（公告）日： | 2019-08-06 |
| 发明（设计）人： | 杨兴;朱华敏;罗昆;章城 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | B43K5/00 | 分类号： | B43K5/00;B43K7/00;B43L13/00 |
| 代理公司： | 北京博讯知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11593 | 代理人： | 吕战竹 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩模图案绘制装置及绘制方法。所述掩模图案绘制装置用于在基底上绘制掩模图案，其包括绘制工具和载置台，其中，所述载置台用于放置所述基底，所述绘制工具包括绘制头和储液部，所述储液部用于存储掩模图案绘制液，所述绘制头与所述储液部相通，当所述绘制头与所述基底接触时，所述储液部中的掩模图案绘制液能够经所述绘制头转移到所述基底上。本发明的掩模图案绘制装置能够以较低的成本和简单的工艺形成掩模图案，通过绘制工具的直接绘制，可以形成任何需要的图案，具有适用范围广、效率高、掩模材料浪费率低等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 绘制 掩模图案 绘制装置 储液部 基底 工具包括 基底接触 掩模材料 载置台 存储 相通 图案 | ||
【主权项】：
1.一种掩模图案绘制装置，用于在基底上绘制掩模图案，其特征在于，包括绘制工具和载置台，其中，所述载置台用于放置所述基底，所述绘制工具包括绘制头和储液部，所述储液部用于存储掩模图案绘制液，所述绘制头与所述储液部相通，当所述绘制头与所述基底接触时，所述储液部中的掩模图案绘制液能够经所述绘制头转移到所述基底上。
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