[发明专利]共焦形貌测量系统及共焦形貌侦测方法

摘要

本发明公开了一种共焦形貌测量系统以及一种共焦形貌侦测方法。本发明利用精密参考深度位移进行各个深度所对应光谱影像图案的记录，以形成具有多个光谱影像图案数据库。再根据每一个感测阵列所得到的多个测物光所形成关于一位置的光谱影像图案，与多个光学比对样本信息的正归化影像匹配运算，以决定对应该光谱影像图案的被测位置的深度信息。同时，光谱影像图案可以由滤波元件的波长分布特性，由数字离散光学图谱转成模拟连续光学图谱，再进行测量光谱影像图案与多个光学的正归化影像匹配运算，以决定对应该光谱影像图案的位置的精密深度信息。

主权项

1.一种共焦形貌测量系统，其特征在于，包括有：一光源模块，用以提供至少一宽带调制光；一显微物镜，用以将每一宽带调制光依放大特定倍率缩放后投射至一物件上，每一宽带调制光从该对象的表面上的一特定位置反射形成一测物光；一光感测装置，用以接收由该对象上该至少一特定位置所反射的至少一测物光，该光感测装置更具有：一滤波模块，其具有多个滤波阵列用以接收反射的至少一测物光，每一个滤波阵列具有多个滤波元件，分别允许一特定波长的测物光通过；一光传感器，与该滤波模块相耦接，用以感测通过每一滤波元件的测物光强度而产生相应的一测物光信号，以得到一光谱影像图案；以及一处理单元，将该光谱影像图案进行一演算，以决定相应每一测物光的特定位置的深度信息。