[发明专利]一种可调节抗干扰微波均匀线源生成系统

摘要

本发明公开一种可调节抗干扰微波均匀线源生成系统，包括：微波源，微波源用于发射点微波束；扩束双曲面透镜E向和H向皆为双曲线，用于将点微波束进行扩束；其中，E向为侧视投影面，H向俯视投影面；重构超环面透镜E向为双曲线，用于使扩束后的点微波束竖直方向的能量进行重新分布，将能量的高斯分布变成均匀线分布，重构超环面透镜E向双曲线的曲率半径小于扩束双曲面透镜E向双曲线的曲率半径；准直超环面透镜E向为双曲线，H向弯曲，用于将E向发散的线分布微波波束进行准直收束，使H向微波波束宽度保持不变，得到微波均匀线源。本发明可以通过点微波源得到微波均匀线源。

主权项

1.一种可调节抗干扰微波均匀线源生成系统，其特征在于，包括：微波源，以及位于微波源一侧依次排列的扩束双曲面透镜、重构超环面透镜、准直超环面透镜；

所述微波源用于发射点微波束；

所述扩束双曲面透镜靠近微波源一侧的E向和H向皆为双曲线，远离微波源一侧为平面，用于将点微波束进行扩束；其中，E向为侧视投影面，H向俯视投影面；

所述重构超环面透镜靠近扩束双曲面透镜一侧的E向为双曲线，用于使扩束后的点微波束竖直方向的能量进行重新分布，将能量的高斯分布变成均匀线分布，所述重构超环面透镜E向双曲线的曲率半径小于扩束双曲面透镜E向双曲线的曲率半径；

所述准直超环面透镜靠近重构超环面透镜一侧的E向为双曲线，H向弯曲，用于将E向发散的线分布微波波束进行准直收束，使H向微波波束宽度保持不变，得到微波均匀线源。

2.根据权利要求1所述的可调节抗干扰微波均匀线源生成系统，其特征在于，还包括：接收面板；

所述接收面板位于所述准直超环面透镜远离重构超环面透镜的一侧，用于标注微波均匀线源的生成位置、大小及能量分布情况。

3.根据权利要求2所述的可调节抗干扰微波均匀线源生成系统，其特征在于，还包括：精密电移动平台；

所述精密电移动平台用于通过改变微波源与扩束双曲面透镜的距离，使得可以根据微波频率变化的需求，保持接收面板接收到的线微波束能量分布基本不变。

4.根据权利要求3所述的可调节抗干扰微波均匀线源生成系统，其特征在于，在点微波频率75GHz到140GHz范围内，精密电移动平台行进距离在100mm左右，可保持接收面板接收到的线微波束能量分布基本不变。

5.根据权利要求1所述的可调节抗干扰微波均匀线源生成系统，其特征在于，扩束双曲面透镜E向和H向双曲线的二次曲面常数为‑2.518，曲率半径为151mm，扩束双曲面透镜的半高半宽皆为57mm，中心厚度为20mm，距离重构超环面透镜的距离为20mm。

6.根据权利要求1所述的可调节抗干扰微波均匀线源生成系统，其特征在于，所述重构超环面透镜E向双曲线的曲面常数为‑1.6，曲率半径为25mm，重构超环面透镜的半高半宽皆为80mm，中心厚度为70mm，距离准直超环面透镜的距离为300mm。

7.根据权利要求1所述的可调节抗干扰微波均匀线源生成系统，其特征在于，所述准直超环面透镜E向双曲线的二次曲面常数为‑1.5，E向曲率半径为220mm，H向弯曲，E向曲率半径200mm，准直超环面透镜半高为230mm，半宽为70mm，中心厚度为120mm。

8.根据权利要求2所述的可调节抗干扰微波均匀线源生成系统，其特征在于，所述接收面板为半高300mm，半宽50mm的平板，距离准直超环面透镜的及距离为200mm。