[发明专利]一种棱柱状硫化镍阵列薄膜材料的原位制备方法

摘要

一种棱柱状硫化镍阵列薄膜材料的原位制备方法，其主要步骤包括：首先，将金属镍基体清洗除尘、除锈、除油以获得清洁的镍表面；然后配制碱性电解液，主要原料为金属碱化合物，辅助原料碱金属硫化物；其次，将电解液放入反应釜中，同时将干净的镍基体浸入电解液中，将反应釜置于马弗炉中在120‑250℃进行水热反应10‑50小时，使得金属镍表面发生硫化原位生长反应；最后，将水热后的镍基体取出、清洗干净并干燥，即可获得棱柱状硫化镍阵列薄膜材料。本发明制备方法简单、原材料廉价、易于操作、生产价格低，所制备的薄膜材料厚度可控、活性高，适合工业化大生产。

主权项

1.一种棱柱状硫化镍阵列薄膜材料的原位制备方法，其特征在于：它包括以下步骤：(1)将金属镍基体清洗除尘、除锈、除油以获得清洁的镍表面；(2)配制碱性电解液，主要原料为金属碱化合物，辅助原料为碱金属硫化物；(3)将电解液放入反应釜中，同时将干净的镍基体浸入电解液中；下一步，将反应釜置于马弗炉中在120‑250℃进行水热反应10‑50小时，使得金属镍表面发生硫化原位生长反应；(4)将水热后的镍基体取出、清洗干净并干燥，即可获得棱柱状硫化镍阵列薄膜材料。