[发明专利]半导体装置及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201810086147.5 申请日: 2018-01-30
公开(公告)号: CN108281447A 公开(公告)日: 2018-07-13
发明(设计)人: 穆钰平;陈世杰;金子贵昭;黄晓橹 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 杜文树
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开涉及一种半导体装置,包括光敏元件的阵列和栅格。栅格布置在光敏元件的阵列上,并且对每个光敏元件分别限定了用于接收光的开口,并将每个光敏元件与相邻的光敏元件光学隔离。栅格包括光学隔离部分和在光学隔离部分上方的电介质部分,电介质部分限定了向开口外侧以一角度倾斜的侧壁。本公开还涉及一种形成半导体装置的方法。
搜索关键词: 光敏元件 半导体装置 光学隔离 栅格 电介质 开口 角度倾斜 接收光 侧壁 制作
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于包括:光敏元件的阵列;和栅格,其布置在光敏元件的阵列上,并且对每个光敏元件分别限定了用于接收光的开口,并将每个光敏元件与相邻的光敏元件光学隔离,其中,所述栅格包括光学隔离部分和在光学隔离部分上方的电介质部分,电介质部分限定了向开口外侧以一角度倾斜的侧壁。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德淮半导体有限公司,未经德淮半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810086147.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top