[发明专利]一种双模板导向离子印迹介孔双层膜的制备方法及其应用在审
申请号: | 201810088718.9 | 申请日: | 2018-01-30 |
公开(公告)号: | CN108246270A | 公开(公告)日: | 2018-07-06 |
发明(设计)人: | 郑旭东;张奕;卞婷婷;张雨哲;李忠玉 | 申请(专利权)人: | 常州大学 |
主分类号: | B01J20/26 | 分类号: | B01J20/26;B01J20/28;B01J20/30;C22B59/00;C22B3/24 |
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地址: | 213164 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及印迹介孔膜的制备,尤其涉及一种双模板导向离子印迹介孔双层膜制备方法及实现从NdFeB磁体中同时选择性吸附分离稀土钕和镝元素的应用,属材料制备技术和分离技术领域。目前,永磁体NdFeB中回收稀土元素过于单一,无法同时回收多种稀土元素,本发明基于双模板导向离子印迹技术,以CNCs为结构导向模板,金属离子为印迹模板,制备出双模板导向离子印迹介孔双层膜(IIBFs),蒸发诱导自组装(EISA),保证底膜在顶膜制备过程的完整和稳定性,原子转移自由基聚合法(ATRP)嫁接温敏单体到IIBFs顶层的表面,实现钕和镝元素的分离吸附。该材料具有高吸附容量和高选择性双吸附的优点,快速键合和良好的重复性保证了工业应用上的巨大潜力。 | ||
搜索关键词: | 离子印迹 双模板 介孔 制备 双层膜 稀土元素 镝元素 吸附 材料制备技术 分离技术领域 永磁体NdFeB 高吸附容量 选择性吸附 分离稀土 高选择性 工业应用 结构导向 金属离子 巨大潜力 快速键合 温敏单体 印迹模板 原子转移 制备过程 自由基聚 回收 自组装 顶层 底膜 顶膜 印迹 应用 诱导 蒸发 嫁接 保证 合法 | ||
【主权项】:
1.一种双模板导向离子印迹介孔双层膜制备方法,其特征在于:(1)首先,CPTES和碘化钠加入到丙酮中,氮气保护的条件下反应48h,避光回流冷凝。然后移除丙酮,随之加入正己烷。反应混合液持续搅拌30分钟,接着在氮气环境下抽滤移除沉淀物。得到黄色的液体(Et3O)3Si(CH2)3I。接着,钾加入到干燥tBuOH中。在钾溶解后,加入乙酰丙酮。在50℃状态下搅拌30分钟,黄色液体(Et3O)3Si(CH2)3I加入混合液并回流反应20小时。溶剂通过真空移除,加入正己烷,悬浊液搅拌10分钟。然后浊液氮气环境下过滤。滤液通过蒸馏处理得到产品乙酰丙酮硅烷(CPTES‑ACAC硅烷)。(2)底层IMFs的制备:将CNCs悬浊液(pH=2.4)超声10分钟,葡萄糖和Nd(NO3)3加入到CNCs悬浊液中,混合液25℃下搅拌1小时,硅酸四乙酯(TEOS)和亚氨基二乙酸硅烷(GLYMO‑IDA硅烷)加入到溶液中。在60℃搅拌反应2小时后,形成均匀混合液。此混合液转入到聚苯乙烯的盘子中室温干燥6‑8小时。(3)顶层IMFs的制备:仅仅使用Dy3+模板代替Nd3+模板,功能单体选用CPTES‑ACAC硅烷。形成的均相混合液迅速铺展到下层膜上。大约2天的室温干燥,获得双模板导向离子印迹双层复合膜。同时移除CNCs,Nd3+和Dy3+模板后,用大量的去离子水清洗,并烘干。最终获得的表面未改性的双模板导向离子印迹介孔双层膜记作p‑IIBFs。(4)制备非印迹介孔双层膜(NIIBFs)的方法与IMBFs的过程是相同的,只是反应过程中不加入钕和镝模板。
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