[发明专利]一种对光学器件进行亲水处理的方法在审
申请号: | 201810091345.0 | 申请日: | 2018-01-30 |
公开(公告)号: | CN108375810A | 公开(公告)日: | 2018-08-07 |
发明(设计)人: | 程桂平 | 申请(专利权)人: | 程桂平 |
主分类号: | G02B1/12 | 分类号: | G02B1/12;C03C17/34;C03C23/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100301 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种对光学器件进行亲水处理的方法,该光学器件由玻璃镜面和透光隔离膜组成。 | ||
搜索关键词: | 光学器件 亲水处理 玻璃镜面 隔离膜 透光 | ||
【主权项】:
1.一种对光学器件进行亲水处理的方法,该光学器件由玻璃镜面和透光隔离膜组成,该方法包括:步骤1:将光学器件的玻璃镜面浸入盐酸进行有机残余物的清洁;步骤2:将光学器件的玻璃镜面浸入氢氧化钠溶液进行有机残余物的清洁;步骤3:将清洁后的玻璃镜面与
置于甲苯回流系统中,并在摄氏50度的温度条件下反应;步骤4:将经过上述步骤反应后的玻璃镜面,以丙酮洗净烘干后,置于亲水化合物水溶液中,在摄氏25度的温度条件下反应进行亲水处理,所述亲水化合物由以下质量份数的物质组成:3份赖氨酸、1份聚山梨酯、8份甘油、15份胺基酸;步骤5:将该透光隔离膜置于甲醇中去除隔离膜表面上之杂质,取出烘干,接着将该透光隔离膜置于装盘基材上,放入等离子反应器中,抽真空除氧,而后通入氩气,启动该等离子反应器使该透光隔离膜的表面产生自由基,反应结束后将该透光隔离膜由该等离子反应器中取出,并将其曝于空气中使该透光隔离膜表面的自由基转换为过氧化基及醇基;步骤6:将反应后的透光隔离膜置于
水解缩合醇水系统中反应;步骤7:将经过上述步骤反应后的透光隔离膜,洗净烘干后,置于亲水化合物水溶液中,在摄氏25度的温度条件下反应进行亲水处理,所述亲水化合物由以下质量份数的物质组成:3份赖氨酸、1份聚山梨酯、10份甘油、15份胺基酸。
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