[发明专利]一种光激发二氧化钛/四氧化三钴湿敏薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810092075.5 申请日: 2018-01-30
公开(公告)号: CN108315691B 公开(公告)日: 2019-11-08
发明(设计)人: 卢靖;梁阔燚;史欢;柴绒;张钰蓉;黄剑锋 申请(专利权)人: 陕西科技大学
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/35;C23C18/12;C23C28/04
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 安彦彦
地址: 710021 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种光激发二氧化钛/四氧化三钴湿敏薄膜的制备方法,将Co3O4薄膜放入磁控溅射仪的样品台,TiO2靶材放入射频靶位,向镀膜室通入Ar气,设置TiO2射频靶位的电源功率为100W~400W,溅射时间为5min~60min,溅射同时对样品台加热,加热温度为500℃~700℃,溅射完成后,得到二氧化钛/四氧化三钴复合薄膜。本发明制备出的薄膜在可见光激发条件下对环境湿度非常灵敏,并且工艺可控性强、薄膜的组成、结构、性能易于调控,光激发下湿敏性突出。
搜索关键词: 四氧化三钴 二氧化钛 光激发 溅射 制备 薄膜 湿敏薄膜 样品台 靶位 放入 射频 加热 工艺可控性 可见光激发 磁控溅射 电源功率 复合薄膜 镀膜室 靶材 敏性 灵敏 调控
【主权项】:
1.一种光激发二氧化钛/四氧化三钴湿敏薄膜的制备方法,其特征在于,将Co3O4薄膜放入磁控溅射仪的样品台,TiO2靶材放入射频靶位,向镀膜室通入Ar气,设置TiO2射频靶位的电源功率为100W~400W,溅射时间为5min~60min,溅射同时对样品台加热,加热温度为500℃~700℃,溅射完成后,得到二氧化钛/四氧化三钴复合薄膜。
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