[发明专利]一种集成偏振光栅制备系统及方法

摘要

本发明公开一种集成偏振光栅制备系统及方法，利用激光双光束干涉原理，结合空间光场调制技术，通过一次曝光或多次曝光实现大面积集成化偏振光栅的快速纳米尺度加工。其方法包括：利用数字微镜元件实现光线的选通，并同时实现对一路光(调制光)振幅的调制，利用一组相互平行的反射镜控制另一路光(参考光)的入射方向，通过旋转这组相互平行的反射镜，可控制参考光和调制光的空间角以及干涉条纹的方向。这为获得不同周期不同角度的偏振光栅提供了基础。通过本发明的偏振光栅制备方法，可实现在光刻胶上大面积制作不同周期的偏振光栅。

主权项

1.一种集成偏振光栅制备系统，其特征在于：包括激光器(11)、准直透镜(12)、分光镜(13)、第一反射镜(14)、数字微镜元件(DMD)(15)、第二反射镜(16)、第三反射镜(17)、第四反射镜(18)、基片(19)、6维移动平台(110)、计算机控制系统(111)；激光器(11)发出的激光经过准直透镜(12)后形成平面波，被分光镜(13)分为相互垂直的两束光，其中反射光束经第一反射镜(14)反射后照射到数字微镜元件(DMD)(15)上，光束经调制后再由第二反射镜(16)反射到达基片(19)；透射光束则连续被第三反射镜(17)和第四反射镜(18)反射到达基片(19)与调制光束发生干涉；其中，激光器(11)、准直透镜(12)、分光镜(13)和第三反射镜(17)共线放置，激光光束以45°角入射分光镜(13)，第一反射镜(14)与分光镜(13)相互平行放置，与数字微镜元件(DMD)(15)相互垂直放置；第三反射镜(17)和第四反射镜(18)位置相互平行，并且安装在同一组机械臂上，基片(19)的位置通过6维移动平台(110)的移动来改变，6维移动平台(110)安放在激光器(11)出射光束方向上，计算机控制系统(111)控制着机械臂和6维移动平台(110)的移动。/n