[发明专利]发光装置及其制作方法在审
| 申请号： | 201810094042.4 | 申请日： | 2014-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN108321272A | 公开（公告）日： | 2018-07-24 |
| 发明（设计）人： | 谢明勋 | 申请（专利权）人： | 晶元光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/38 | 分类号： | H01L33/38;H01L33/46;H01L33/62 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种发光装置及其制作方法，其制作方法包含步骤：提供一第一载板，其具有多个第一金属接触；提供一基材；形成多个发光叠层以及多个沟槽于基材上，其中多个发光叠层通过等沟槽与彼此分离；连接多个发光叠层与第一载板；形成一封装材料共同地位于多个发光叠层上；以及切割第一载板以及封装材料以形成多个管芯级的发光元件单元。 | ||
| 搜索关键词： | 发光叠层 载板 发光装置 封装材料 基材 制作 发光元件单元 彼此分离 金属接触 管芯级 切割 | ||
【主权项】：
1.一种发光元件阵列，其特征在于，包含：第一发光元件，包含第一发光叠层；第二发光元件，包含第二发光叠层；第一波长转换层，位于该第一发光叠层之上，第二波长转换层位于该第二发光叠层之上；第一金属层，位于该第一发光叠层之下，第二金属层位于该第二发光叠层之下；以及介电层，位于该第一发光元件、以及该第二发光元件之间；其中，该介电层围绕该第一发光元件、该第二发光元件、该第一金属层、该第二金属层、该第一波长转换层、以及该第二波长转换层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于晶元光电股份有限公司，未经晶元光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810094042.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
