[发明专利]自参考干涉仪、对准系统以及光刻设备有效

专利信息
申请号: 201810095803.8 申请日: 2018-01-31
公开(公告)号: CN110095880B 公开(公告)日: 2020-08-07
发明(设计)人: 王诗华 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G02B27/28 分类号: G02B27/28;G03F9/00
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种自参考干涉仪、对准系统以及光刻设备。该自参考干涉仪包括:具有相同起点和相同终点的第一光线传播路径和第二光线传播路径;沿第一光线传播路径方向依次设置有第一偏振分光棱镜和第一辅助棱镜;第一偏振分光棱镜的分光面与第一辅助棱镜的入光面平行设置;在第一光线传播路径的起点处设置有第二偏振分光棱镜和第二辅助棱镜;第二偏振分光棱镜的分光面与第二辅助棱镜的入光面平行设置;在第一光线传播路径的终点处设置有第三偏振分光棱镜;在第一光线传播路径和/或第二光线传播路径上设置有光程补偿单元。与现有的自参考干涉仪相比,本发明实施例提供的自参考干涉仪制作难度低,装调难度低。
搜索关键词: 参考 干涉仪 对准 系统 以及 光刻 设备
【主权项】:
1.一种自参考干涉仪,其特征在于,包括:具有相同起点和相同终点的第一光线传播路径和第二光线传播路径;沿所述第一光线传播路径方向,依次设置有第一偏振分光棱镜和第一辅助棱镜;所述第一偏振分光棱镜的分光面与所述第一辅助棱镜的入光面平行设置;在所述第一光线传播路径的起点处,设置有第二偏振分光棱镜和第二辅助棱镜;所述第二偏振分光棱镜的分光面与所述第二辅助棱镜的入光面平行设置;在所述第一光线传播路径的终点处,设置有第三偏振分光棱镜;入射到所述第二辅助棱镜的光束经过所述第二辅助棱镜,并在所述第二偏振分光棱镜的分光面处分为第一子光束和第二子光束,所述第一子光束沿所述第一光线传播路径传播,所述第二子光束沿所述第二光线传播路径传播,所述第一子光束和所述第二子光束在所述第三偏振分光棱镜处合并;在所述第一光线传播路径和/或所述第二光线传播路径上设置有光程补偿单元,以补偿所述第一光线传播路径和所述第二光线传播路径的光程差。
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