[发明专利]一种高通量材料制备的装置及其应用在审

专利信息
申请号: 201810097176.1 申请日: 2018-01-31
公开(公告)号: CN108330456A 公开(公告)日: 2018-07-27
发明(设计)人: 林海;吴忠振;肖舒;潘锋 申请(专利权)人: 北京大学深圳研究生院
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/50;C23C14/54
代理公司: 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 代理人: 李小焦
地址: 518055 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请公开了一种高通量材料制备的装置及其应用。本申请的装置,包括基片台、材料共混区、基片台移动系统、溅射源和溅射电源;基片台上安装有若干个可组装延伸的基片单元;溅射源包括若干个不同靶材料的溅射阴极,各溅射阴极独立控制,使用时,所有溅射阴极的束流汇集于材料共混区;材料共混区为不同靶材料的溅射材料的混合区域;基片台移动系统控制基片台移动,使基片单元依序通过材料共混区,进行磁控溅射。本申请的装置,可以实现不同材料按不同比例沉积,从而制备出一系列的新材料,并且可以实现持续的高通量生产,极大的方便了新材料的研发以及材料基因组材料库建库。
搜索关键词: 基片台 共混 溅射阴极 高通量 材料制备 基片单元 移动系统 靶材料 溅射源 申请 基因组材料 磁控溅射 独立控制 混合区域 溅射材料 溅射电源 可组装 沉积 建库 束流 研发 制备 应用 延伸 移动 生产
【主权项】:
1.一种高通量材料制备的装置,其特征在于:包括基片台(1)、材料共混区(2)、基片台移动系统(3)、溅射源(4)和溅射电源(5);所述基片台(1)上安装有若干个可组装延伸的基片单元;所述溅射源(4)包括若干个不同靶材料的溅射阴极,每个溅射阴极由独立的溅射电源(5)控制,并且使用时,所有溅射阴极的束流汇集于所述材料共混区(2);所述材料共混区(2)为不同靶材料的溅射阴极对基片单元进行溅射的溅射材料的混合区域;所述基片台移动系统(3)控制所述基片台(1)移动,使基片单元依序通过材料共混区(2),进行磁控溅射。
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