[发明专利]一种Ge-Sb-C相变存储材料、其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201810097825.8 申请日: 2018-01-31
公开(公告)号: CN108346739B 公开(公告)日: 2019-09-13
发明(设计)人: 徐明;吴倩倩;缪向水 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 许恒恒;李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于微电子技术领域,具体涉及一种Ge‑Sb‑C相变存储材料、其制备方法和应用。本发明的Ge‑Sb‑C新型相变存储材料,其化学组成通式(GeiSbj)100‑xCx,其中x,i,j,均表示原子百分比,0<x<15,0<i≤50,50≤j<100,i+j=100。与现有技术相比,本发明的一种Ge‑Sb‑C相变存储材料相变前后的密度变化减小,使得相变后产生的应力减小,器件循环性能提高;同时在本发明中,所述Ge‑Sb‑C相变存储材料相变温度得到大幅度提升,热稳定性增强,数据保持力增强;另外,所述Ge‑Sb‑C相变存储材料的晶态电阻率升高,器件的RESET电流减小,操作功耗降低。
搜索关键词: 相变存储材料 制备方法和应用 微电子技术领域 化学组成通式 晶态电阻率 数据保持力 原子百分比 操作功耗 电流减小 密度变化 热稳定性 循环性能 应力减小 减小 升高
【主权项】:
1.一种Ge‑Sb‑C相变存储材料,其特征在于,其化学组成通式为(GeiSbj)100‑xCx,其中,x,i,j都为原子百分比,其中0<x<15,0<i≤50,50≤j<100,i+j=100;所述Ge‑Sb‑C相变存储材料中C原子存在于Ge‑Sb晶格间隙中,并与Ge‑Sb形成化学键;在非晶态中形成四面体中心提高原子堆积效率,减小该Ge‑Sb‑C相变存储材料相变前后的密度变化;所述Ge‑Sb‑C相变存储材料通过控制C的掺入含量来控制所述相变存储材料的相变温度和电阻率;所述Ge‑Sb‑C相变存储材料的高阻态的电阻率至少是低阻态的100倍。
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