[发明专利]一种搅拌装置和一种卧式双轴自清洁反应器

摘要

本发明涉及一种搅拌装置，包括两个转轴，转轴上沿轴向固定有多个相同的搅拌盘，所述搅拌盘由多个相同的沿径向布置的搅拌杆和连接两个相邻搅拌杆的固定杆组成，所述搅拌杆包括沿径向布置的支撑杆和垂直设置在支撑杆上的两个或多个搅拌桨叶，其中一个搅拌桨叶位于所述支撑杆末端，两个转轴上的搅拌盘交错布置。本发明还提供了一种基于上述搅拌装置的卧式双轴自清洁反应器，相比于传统卧式双轴反应器，本发明结构简单，具有更大的反应空间，物料在釜体内做剪切拉伸流，可适应不同粘度的流体；停留时间可控；与传统的卧式双轴反应器相比，可实现釜体内全反应区域的相互刮擦，自清洁效果强；反应能耗低，混合效率高。

主权项

1.一种搅拌装置，其特征在于，包括第一转轴(8.1)和第二转轴(8.2)，第一转轴(8.1)上，沿轴向固定有多个相同的第一搅拌盘，所述第一搅拌盘由多个相同的沿径向布置的第一搅拌杆和连接两个相邻第一搅拌杆的第一固定杆(11.1)组成，所述第一搅拌杆包括沿径向布置的第一支撑杆(12.1)和垂直设置在支撑杆(12.1)上的两个或多个第一搅拌桨叶(10.1)，其中一个第一搅拌桨叶(10.1)位于所述第一支撑杆(12.1)末端。在第二转轴(8.2)上，沿轴向固定有多个相同的第二搅拌盘，所述第二搅拌盘由多个相同的沿径向布置的第二搅拌杆和连接两个相邻第二搅拌杆的第二固定杆(11.2)组成，所述第二搅拌杆包括沿径向布置的第二支撑杆(12.2)和垂直设置在二支撑杆(12.2)上的两个或多个第二搅拌桨叶(10.2)，其中一个第二搅拌桨叶(10.2)位于所述第二支撑杆(12.2)末端。第一搅拌盘和第二搅拌盘之间交错设置，具体为：第一支撑杆(12.1)和第二支撑杆(12.2)沿轴向交错布置，第一搅拌桨叶(10.1)和第二搅拌桨叶(10.2)沿径向交错布置。