[发明专利]新型异质结雪崩光电二极管在审
申请号: | 201810100176.2 | 申请日: | 2018-02-01 |
公开(公告)号: | CN108110081A | 公开(公告)日: | 2018-06-01 |
发明(设计)人: | 石拓 | 申请(专利权)人: | 北京一径科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/109;H01L31/0352 |
代理公司: | 北京京万通知识产权代理有限公司 11440 | 代理人: | 许天易 |
地址: | 100096 北京市昌平区回龙*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种新型异质结雪崩光电二极管,包括衬底、第一外延层、第二外延层、第三外延层和第四外延层,第四外延层通过异质外延生长形成于第三外延层之上;第一外延层上形成有第一掺杂区,第一掺杂区包含第一掺杂类型掺杂;第一外延层上形成有第一电极接触区,第一电极接触区包含第一掺杂类型掺杂;第二外延层上形成有第二掺杂区,第二掺杂区包含第一掺杂类型掺杂;第三外延层顶部区域形成有制作有图形的防电场穿透保护层,制作有图形的防电场穿透保护层包含有第一掺杂剂量的第二掺杂类型掺杂;第三外延层顶部区域形成有电场穿透通孔阵列区,电场穿透通孔阵列区包含有第二掺杂剂量的第二掺杂类型掺杂。本发明可以降低器件暗电流,提高探测灵敏度。 | ||
搜索关键词: | 外延层 掺杂类型 电场穿透 掺杂区 掺杂 雪崩光电二极管 掺杂剂量 第一电极 顶部区域 通孔阵列 保护层 接触区 异质结 异质外延生长 探测灵敏度 降低器件 暗电流 衬底 制作 | ||
【主权项】:
1.新型异质结雪崩光电二极管,其特征在于,从下至上依次包括衬底、第一外延层、第二外延层、第三外延层和第四外延层,所述第四外延层通过异质外延生长形成于所述第三外延层之上;所述第一外延层上形成有第一掺杂区,所述第一掺杂区包含第一掺杂类型掺杂;所述第一外延层上形成有第一电极接触区,所述第一电极接触区包含第一掺杂类型掺杂;所述第二外延层上形成有第二掺杂区,所述第二掺杂区包含第一掺杂类型掺杂;所述第三外延层顶部区域形成有制作有图形的防电场穿透保护层,所述制作有图形的防电场穿透保护层包含有第一掺杂剂量的第二掺杂类型掺杂;所述第三外延层顶部区域形成有电场穿透通孔阵列区,所述电场穿透通孔阵列区包含有第二掺杂剂量的第二掺杂类型掺杂;所述第四外延层上形成有第二电极接触区,所述第二电极接触区包含第二掺杂类型掺杂。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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