[发明专利]指纹处理系统和方法在审

专利信息
申请号: 201810100375.3 申请日: 2018-01-31
公开(公告)号: CN108388843A 公开(公告)日: 2018-08-10
发明(设计)人: 托马斯·苏沃德 申请(专利权)人: 恩智浦有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 倪斌
地址: 荷兰埃因霍温高科*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 根据本公开的第一方面,提供一种指纹处理系统,所述指纹处理系统包括:传感器板集合;测量单元,其被配置成测量所述传感器板上的一个或多个电容;处理单元,其被配置成处理所述测得的电容;其中所述测量单元被配置成并行地测量所述传感器板集合的子集上的电容;其中所述处理单元被配置成处理所述并行测得的电容。根据本公开的第二方面,构想一种处理指纹处理系统中的指纹的对应方法。根据本公开的第三方面,提供一种对应计算机程序。
搜索关键词: 指纹处理系统 传感器板 电容 测量单元 处理单元 配置 并行 集合 测量 计算机程序 多个电容 子集 指纹 构想
【主权项】:
1.一种指纹处理系统,其特征在于,包括:传感器板集合;测量单元,其被配置成测量所述传感器板上的一个或多个电容;处理单元,其被配置成处理所述测得的电容;其中,所述测量单元被配置成并行地测量所述传感器板集合的子集上的电容;其中,所述处理单元被配置成处理所述并行测得的电容。
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