[发明专利]用于X光机的自动曝光剂量调节方法和系统及存储介质在审
| 申请号： | 201810102709.0 | 申请日： | 2018-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN110101399A | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | 李莉 | 申请（专利权）人： | 上海西门子医疗器械有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201318 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于X光机的自动曝光剂量调节方法和系统及存储介质。在一实施方式中，X光机包括发生器和探测器，用于X光机的自动曝光剂量调节方法包括：以选定预曝光参数进行预曝光，获得预曝光图像，基于所述预曝光图像计算所述探测器端的预曝光剂量DoseT‑PRE；根据所述选定预曝光参数计算所述发生器端的曝光点EPT‑PRE；确定探测器端的目标剂量DoseTarget；基于所述探测器端的预曝光剂量DoseT‑PRE和目标剂量DoseTarget以及所述发生器端的曝光点EPT‑PRE计算探测器端的曝光点EPT。本发明提出的自动曝光剂量调节方案耗时短、图像采集帧数少、流程简单、结果准确，同时也降低对发生器性能的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 预曝光 剂量调节 自动曝光 发生器 探测器 曝光点 存储介质 计算探测器 参数计算 图像采集 图像计算 帧数 耗时 图像 | ||
【主权项】：
1.一种用于X光机的自动曝光剂量调节方法，所述X光机包括发生器和探测器，所述方法包括：以选定预曝光参数进行预曝光，获得预曝光图像，基于所述预曝光图像计算所述探测器端的预曝光剂量DoseT‑PRE；根据所述选定预曝光参数计算所述发生器端的曝光点EPT‑PRE；确定探测器端的目标剂量DoseTarget；基于所述探测器端的预曝光剂量DoseT‑PRE和目标剂量DoseTarget以及所述发生器端的曝光点EPT‑PRE计算探测器端的曝光点EPT。
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