[发明专利]一种用于湿法刻蚀的挤水滚轮

摘要

本发明涉及一种挤水滚轮，提供了一种结构简单，可在生产过程中有效保护硅片表面，降低EL不良比例，并节约生产成本的用于湿法刻蚀的挤水滚轮，解决了现有技术中存在的在生产过程中挤水滚轮易磨损，生产成本高，且硅片表面易污染，成品不良品较多等的技术问题，它包括传动轮组及横设于传动轮组上方的支撑轴，在所述支撑轴上套装有光面挤压套筒，且光面挤压套筒的中孔与支撑轴间设有第一间隙，在传动轮组与对应的光面挤压套筒间夹持有硅片，硅片在传动轮组的带动下朝向输出侧移动。

主权项

1.一种用于湿法刻蚀的挤水滚轮，包括传动轮组（1）及横设于传动轮组（1）上方的支撑轴（2），其特征在于：在所述支撑轴（2）上套装有光面挤压套筒（3），且光面挤压套筒（3）的中孔与支撑轴（2）间设有第一间隙（4），在传动轮组（1）与对应的光面挤压套筒（3）间夹持有硅片（5），硅片（5）在传动轮组（1）的带动下朝向输出侧移动；所述光面挤压套筒（3）外环面的粗糙度为200至400μm；所述支撑轴（2）的一端连接着动力装置，且在光面挤压套筒（3）两端对应的支撑轴（2）上设有若干个径向滑槽（9），在径向滑槽（9）内互配滑动连接着顶块（10），顶块（10）向外滑出时外侧端顶接在光面挤压套筒（3）的中孔内。/n