[发明专利]基于外部单点源的镜像综合孔径辐射计误差校正方法有效

专利信息
申请号: 201810110499.X 申请日: 2018-02-05
公开(公告)号: CN108375758B 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 李青侠;窦昊锋;桂良启;李育芳;吴袁超;雷振羽 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G01S7/40 分类号: G01S7/40
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 李智;曹葆青
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种基于外部单点源的镜像综合孔径辐射计误差校正方法,包括:采集目标场景的信号以及单点源的信号,撤掉镜像综合孔径辐射计中的双反射板,采集位于双反射板的交线处的校正源的校正数据;利用单点源信号判断校正源的校正数据是否正确,当校正源的校正数据正确时,利用校正源的校正数据校正目标场景信号,得到校正后的相关输出函数;对校正后的相关输出函数进行求解,得到余弦可见度函数;利用余弦可见度函数进行反余弦变换,重建目标场景亮温图像。本发明校正近场误差以及通道幅相误差,提高成像质量。
搜索关键词: 基于 外部 单点 综合 孔径 辐射计 误差 校正 方法
【主权项】:
1.一种基于外部单点源的镜像综合孔径辐射计误差校正方法,其特征在于,包括:S1:采集目标场景的信号以及单点源的信号,S2:撤掉镜像综合孔径辐射计中的双反射板,采集位于双反射板的交线处的校正源的校正数据;S3:利用单点源信号判断校正源的校正数据是否正确,当校正源的校正数据正确时,利用校正源的校正数据校正目标场景的信号,得到校正后的相关输出函数;S4:对校正后的相关输出函数进行求解,得到余弦可见度函数;S5:利用余弦可见度函数进行反余弦变换,重建目标场景亮温图像。
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