[发明专利]一种新型弧形VCSEL发光阵列、制作方法、控制系统和控制方法在审
| 申请号： | 201810118042.3 | 申请日： | 2018-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN108493766A | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | 刘晓萌;杨涛;王彦丁 | 申请（专利权）人： | 中国计量科学研究院 |
| 主分类号： | H01S5/183 | 分类号： | H01S5/183 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人： | 杨立;吴佳 |
| 地址： | 100013 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种新型弧形VCSEL发光阵列、制作方法、控制系统和控制方法，该方法包括：采用激光束对曲面弧形基底上的所述VCSEL阵列单元表面上的电极层进行逐点扫描加工；还涉及一种系统，该系统包括：新型弧形VCSEL发光阵列、微透镜阵列、逻辑控制电路。还涉及一种控制方法，该方法包括：逻辑控制电路根据接收到的发光指令控制新型VCSEL发光阵列中发光单元的发光顺序；根据发光顺序，分别设置每个微反射镜不同的反射角度，以使新型弧形VCSEL发光阵列中每个发射单元发出的光与水平面垂直的方向上呈预设角度的发射角。通过本发明的新型弧形VCSEL发光阵列，可以实现指定发光单元的发光时间各自独立可控，大大提高了VCSEL阵列单元的使用效率。 | ||
| 搜索关键词： | 发光阵列 新型弧形 逻辑控制电路 发光 发光单元 控制系统 水平面垂直 微透镜阵列 单元表面 独立可控 发光指令 发射单元 曲面弧形 使用效率 微反射镜 逐点扫描 电极层 发射角 激光束 基底 预设 反射 制作 加工 | ||
【主权项】：
1.一种新型弧形VCSEL发光阵列的制作方法，其特征在于,该制作方法包括：采用激光束对曲面弧形基底上的所述VCSEL阵列单元表面上的电极层进行逐点扫描加工，得到新型弧形VCSEL发光阵列。
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