[发明专利]一种用于提拉法长晶的温场在审
| 申请号： | 201810119536.3 | 申请日： | 2018-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN108193264A | 公开（公告）日： | 2018-06-22 |
| 发明（设计）人： | 佘茜;韩鹏 | 申请（专利权）人： | 安徽中科镭泰激光科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/00 | 分类号： | C30B15/00 |
| 代理公司： | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人： | 曹政 |
| 地址： | 241200 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于提拉法长晶的温场，具有：坩埚；侧保温层，包围坩埚；底保温层，与侧保温层连接并支撑侧保温层；调节机构，设置在侧保温层底部，调节机构支撑坩埚；调节机构具有一个上托块和两个下调节垫块，上托块底部设有一个圆锥形的凸起，下调节垫块上设有与圆锥形的凸起相适配的斜面，两个下调节垫块分别位于上托块的两侧并支撑上托块；线圈，缠绕在侧保温层和底保温层的外周；保温罩，设置在侧保温层的上部比与侧保温层连接；籽晶杆，伸入保温罩内，可方便快捷准确调节坩埚相对高度的方法，可用于温场的细微调节，能够方便、快捷、精准的微调坩埚相对高度，搭建最为合适的晶体生长温场。 | ||
| 搜索关键词： | 保温层 坩埚 上托 温场 垫块 底保温层 保温罩 提拉法 凸起 支撑 晶体生长 细微调节 籽晶杆 可用 伸入 适配 外周 微调 缠绕 包围 | ||
【主权项】：
1.一种用于提拉法长晶的温场，其特征在于，具有：坩埚；侧保温层，包围所述坩埚；底保温层，与所述侧保温层连接并支撑所述侧保温层；调节机构，设置在所述侧保温层底部，所述调节机构支撑所述坩埚；调节机构具有一个上托块和两个下调节垫块，所述上托块底部设有一个圆锥形的凸起，所述下调节垫块上设有与所述圆锥形的凸起相适配的斜面，所述两个下调节垫块分别位于所述上托块的两侧并支撑所述上托块；线圈，缠绕在所述侧保温层和底保温层的外周；保温罩，设置在所述侧保温层的上部比与所述侧保温层连接；籽晶杆，伸入所述保温罩内。
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