[发明专利]化学气相沉积机台之板状构件的平坦度处理方法在审
| 申请号： | 201810121301.8 | 申请日： | 2018-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN110116149A | 公开（公告）日： | 2019-08-13 |
| 发明（设计）人： | 金东熙;朴渊珏;洪启方;崔胜龙 | 申请（专利权）人： | 世界中心科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B21D1/10 | 分类号： | B21D1/10;B29C53/18;C23C16/00 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人： | 翟羽 |
| 地址： | 中国台湾台中县梧*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本揭示提供一种化学气相沉积机台之板状构件的平坦度处理方法，其包含：(a)绘制对应于一CVD板状构件的一座标系，该座标系上包含若干个座标点；(b)量测每个座标点的平坦度；(c)判断各个座标点的平坦度是否符合一预定平坦度；以及(d)若该各个座标点的平坦度不符合该预定平坦度，则在常温下以一压头向需要进行平坦度调整的座标点施予压力，并回到步骤(b)和(c)。本揭示能够减少CVD板状构件的平坦度调整时间。 | ||
| 搜索关键词： | 平坦度 板状构件 机台 化学气相沉积 座标系 常温下 量测 压头 绘制 | ||
【主权项】：
1.一种化学气相沉积（CVD）机台之板状构件的平坦度处理方法，其特征在于，所述包含：(a) 绘制对应于一CVD板状构件的一座标系，该座标系上包含若干个座标点；(b) 量测每个座标点的平坦度；(c) 判断各个座标点的平坦度是否符合一预定平坦度；以及(d) 若该各个座标点的平坦度不符合该预定平坦度，则在常温下以一压头向需要进行平坦度调整的座标点施予压力，并回到步骤(b)和(c)。
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