[发明专利]掩蔽元件中的孔并对元件进行处理的方法有效
| 申请号： | 201810127577.7 | 申请日： | 2018-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN110129859B | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 徐晟;古彦飞;钟大龙 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | C25D13/00 | 分类号： | C25D13/00;C23G1/00;C25F1/02;C23C4/02 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 徐颖聪 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种掩蔽元件中的孔并对元件进行处理的方法，所述元件包括开口于其表面的至少一个孔，所述方法包括：将所述元件放入包括掩蔽材料颗粒的电泳液中作为电极，向所述元件和所述元件的对电极施加电压，通过电泳作用使得所述电泳液中的掩蔽材料颗粒沉积到所述至少一个孔内，以掩蔽所述至少一个孔；对所述元件的表面进行处理；及将所述至少一个孔内的掩蔽材料去除。 | ||
| 搜索关键词： | 掩蔽 元件 中的 进行 处理 方法 | ||
【主权项】：
1.一种处理元件的方法，其中所述元件包括开口于其表面的至少一个孔，所述方法包括：将所述元件放入包括掩蔽材料颗粒的电泳液中作为电极，向所述元件和所述元件的对电极施加电压，通过电泳作用使得所述电泳液中的掩蔽材料颗粒沉积到所述至少一个孔内，以掩蔽所述至少一个孔；对所述元件的表面进行处理；及将所述至少一个孔内的掩蔽材料去除。
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