[发明专利]用于测量复杂结构的系统及方法有效
| 申请号： | 201810127929.9 | 申请日： | 2018-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN108413883B | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | A·W·科伊尼 | 申请（专利权）人： | 真实仪器公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;G01B11/22;G01N21/55 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 王龙 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请案针对于用于测量复杂结构的系统及方法。所述系统及方法支持结构复杂性减小及建模以用于光学监测，且准许在半导体制造过程期间确定膜厚度及特征深度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 测量 复杂 结构 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种产生复杂半导体结构的经减小复杂性模型以在半导体制造过程期间监测所述半导体结构的方法，其包括：接收关于所述半导体结构的信息；采用有效介质近似及所述所接收信息来依据至少一个可变处理参数确定所述半导体结构的经修改部分及未经修改部分两者的简化光学模型；以及组合所述未经修改部分及所述经修改部分的所述简化光学模型以提供所述半导体结构的简化模型，其中所述简化模型足以为所述半导体制造过程提供控制。
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