[发明专利]用于沉积含硅膜的有机氨基官能化线性和环状低聚硅氧烷有效
| 申请号： | 201810128979.9 | 申请日： | 2018-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN108395450B | 公开（公告）日： | 2021-12-31 |
| 发明（设计）人： | 萧满超;M·R·麦克唐纳;雷新建;王美良 | 申请（专利权）人： | 弗萨姆材料美国有限责任公司 |
| 主分类号： | C07F7/21 | 分类号： | C07F7/21;C07F7/10;C07F7/02;C23C16/40 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 吴亦华;徐志明 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文公开了具有至少两个硅原子和两个氧原子以及有机氨基基团的氨基官能化线性和环状低聚硅氧烷以及用于制备所述低聚硅氧烷的方法。本文还公开了使用所述有机氨基官能化线性和环状低聚硅氧烷沉积含硅和氧的膜的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 含硅膜 有机 氨基 官能 线性 环状 低聚硅氧烷 | ||
【主权项】：
1.一种组合物，其包含选自式A、B、C和D的至少一种有机氨基官能化低聚硅氧烷化合物：![]()
其中，R1选自C1至C10直链烷基、C3至C10支链烷基、C3至C10环状烷基、C3至C10杂环基、C3至C10烯基、C3至C10炔基和C4至C10芳基；R2选自氢、C1至C10直链烷基、C3至C10支链烷基、C3至C10环状烷基、C3至C10杂环基、C3至C10烯基、C3至C10炔基和C4至C10芳基，其中R1和R2连接形成环状环结构或不连接形成环状环结构；R3‑10各自独立地选自氢、C1至C10直链烷基、C3至C10支链烷基、C3至C10环状烷基、C2至C10烯基、C2至C10炔基和C4至C10芳基；和X选自C1至C10直链烷基、C3至C10支链烷基、C3至C10环状烷基、C2至C10烯基、C2至C10炔基、C4至C10芳基、C1至C10酰基、胺基(‑NR1R2)、H、Cl、Br、I、F、C2至C12羧酸酯基、C1至C10直链或支链烷氧基、三甲基甲硅烷氧基、二甲基甲硅烷氧基、甲基甲硅烷氧基和甲硅烷氧基，其中R1和X连接形成环状环或不连接形成环状环，其中如果在式C中R1‑8全部是甲基，则X不可以是三甲基甲硅烷氧基，并且其中如果在式D中R1‑10全部是甲基，则X不可以是甲基或二甲基氨基。
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