[发明专利]基板处理装置

摘要

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够一边对基板进行加热一边使基板的上表面相对于水平面倾斜，并且，从基板的上方顺利且完全地排除有机溶剂等的处理液的液膜。基板处理装置具有一边对基板进行支撑一边对基板从下方进行加热的基板加热单元和使基板加热单元的姿势在水平姿势和倾斜姿势之间变更的姿势变更单元。在紧接着对基板加热的基板高温化工序执行的有机溶剂排除工序中，通过使基板加热单元的姿势变更为倾斜姿势，来使基板的上表面相对于水平面倾斜。

主权项

1.一种基板处理装置，其特征在于，具有：基板保持单元，将基板保持为水平；处理液供给单元，通过向由所述基板保持单元保持的基板的上表面供给处理液，形成覆盖基板的整个上表面的处理液的液膜；基板加热单元，具有以分别独立的温度对由所述基板保持单元保持的基板的整个上表面进行加热的多个加热器，在基板的整个上表面被处理液的液膜覆盖的状态下，通过以处理液的沸点以上的温度对由所述基板保持单元保持的基板进行加热来使处理液蒸发，以在处理液的液膜和基板的上表面之间形成气相；控制装置，对所述基板加热单元进行控制，所述控制装置执行均匀加热工序和温度差产生工序，从而处理液的液膜不会分裂，保持液块的状态从基板排除，在所述均匀加热工序中，在基板的整个上表面由处理液的液膜覆盖的状态下，通过使所述多个加热器以处理液的沸点以上的温度对由所述基板保持单元保持的基板均匀加热来使处理液蒸发，以在由所述基板保持单元保持的基板的上表面和处理液的液膜之间形成气相，所述温度差产生工序在所述均匀加热工序后执行，在所述温度差产生工序中，在处理液的液膜和基板的上表面之间形成有气相的状态下，通过控制所述多个加热器，在由所述基板保持单元保持的基板的上表面形成温度在处理液的沸点以上的低温区域和温度比所述低温区域的温度高的高温区域。