[发明专利]一种平面全息光栅扫描曝光装置有效
| 申请号： | 201810132422.2 | 申请日： | 2018-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN108415110B | 公开（公告）日： | 2019-12-17 |
| 发明（设计）人： | 巴音贺希格;宋莹;唐玉国;王玮;齐向东;李文昊 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/20 |
| 代理公司： | 44316 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 赵勍毅 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明提供的平面全息光栅扫描曝光装置，包括光源激光、准直系统、干涉图样生成单元、用于承载干涉图样生成单元的X向运动工作台、Y向运动工作台及控制器，干涉图样生成单元生成的两束相干光束分别是第一相干光束和第二相干光束，所述第一相干光束和所述第二相干光束在所述Y向运动工作台上相交形成干涉图样，在所述控制器的控制下，所述X向运动工作台沿X向进行步进运动，所述Y向运动工作台沿Y向进行往复运动，可以利用毫米级干涉图样进行平面全息光栅的扫描曝光，避免了传统平面全息光栅曝光装置中，大口径光学元件上的瑕疵对光栅制作的影响，且可以对曝光过程中的扰动进行扫描均化，系统组成较为简单、成本较低、对环境要求较低。 | ||
| 搜索关键词： | 干涉图样 相干光束 平面全息光栅 生成单元 扫描曝光装置 控制器 工作台 全息光栅曝光装置 大口径光学元件 步进运动 传统平面 光栅制作 环境要求 曝光过程 扫描曝光 系统组成 准直系统 毫米级 扰动 均化 瑕疵 光源 相交 激光 扫描 承载 | ||
【主权项】：
1.一种平面全息光栅扫描曝光装置，其特征在于，包括光源激光、准直系统、干涉图样生成单元、用于承载所述干涉图样生成单元的X向运动工作台、Y向运动工作台及控制器，所述干涉图样生成单元生成的两束相干光束分别是第一相干光束和第二相干光束，所述第一相干光束和所述第二相干光束在所述Y向运动工作台上相交形成干涉图样，在所述控制器的控制下，所述X向运动工作台沿X向进行步进运动，所述Y向运动工作台沿Y向进行往复运动；/n所述干涉图样生成单元包括分束棱镜、第一平面反射镜、第二平面反射镜、角镜、压电陶瓷、第三平面反射镜以及光电探测器，所述角镜安装在所述压电陶瓷上，所述控制器分别与所述压电陶瓷和所述光电探测器电性连接，所述光源激光经过准直系统后形成平面波，所述平面波经过分束棱镜形成第一相干光束和第二相干光束，所述第一相干光束依次经过所述第一平面反射镜以及所述第二平面反射镜照射在所述Y向运动工作台，所述第二相干光束依次经过所述角镜、所述第三平面反射镜照射在所述Y向运动工作台；/n所述干涉图样生成单元还包括分光片，本次扫描干涉图样与已经扫描形成的潜像光栅之间存在重叠，所述第一相干光束经过潜像光栅形成的一级衍射光和所述第二相干光束的反射光经过所述分光片后形成莫尔条纹，所述光电探测器接收所述莫尔条纹并将光强变化输出至所述控制器，所述控制器根据所述光强变化驱动所述压电陶瓷带动所述角镜产生位移直至所述干涉图样的干涉条纹相位匹配。/n
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