[发明专利]有机污染物降解用压电光电子材料及降解方法在审
| 申请号： | 201810133620.0 | 申请日： | 2018-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN108479748A | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | 张作泰;余东方;李顺 | 申请（专利权）人： | 南方科技大学 |
| 主分类号： | B01J23/20 | 分类号： | B01J23/20;B01J35/02;C02F1/30;C02F1/36;C02F1/72;C02F101/30 |
| 代理公司： | 深圳青年人专利商标代理有限公司 44350 | 代理人： | 傅俏梅 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种有机污染物降解用压电光电子材料，采用二维KNbO3纳米片。所述二维KNbO3纳米片制备方法：将KOH和Nb2O5按配比先后加入装有乙二醇的容器中，充分分散后将混合液转移至高压反应釜中，加热一段时间后冷却至室温；清洗烘干后将得到的白色产物研磨成粉末，高温煅烧即得到二维KNbO3纳米片。本发明还提供了一种有机污染物降解方法，采用上述压电光电子材料作为催化剂，采用超声波或光照和超声波共同辅助进行有机污染物降解。本发明充分利用二维KNbO3纳米片的活性暴露面比例大，吸附能力强以及易形变和压电常数较高的优势，不仅可作为光催化剂被紫外光激发，还可利用其压电效应在超声波条件下激发更多的电子空穴对，实现了对有机污染物的高效去除。 | ||
| 搜索关键词： | 有机污染物降解 纳米片 二维 光电子材料 压电 超声波 超声波条件 高压反应釜 有机污染物 紫外光激发 白色产物 电子空穴 高温煅烧 光催化剂 加热一段 清洗烘干 吸附能力 压电常数 压电效应 形变 研磨 暴露面 后冷却 混合液 乙二醇 降解 配比 去除 催化剂 制备 光照 激发 | ||
【主权项】：
1.一种有机污染物降解用压电光电子材料，其特征在于，采用二维KNbO3纳米片。
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