[发明专利]一种陶瓷烧结前后隐形防伪标记的建模定位方法和装置有效

专利信息
申请号: 201810134660.7 申请日: 2018-02-09
公开(公告)号: CN108305558B 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 肖楠;唐敏;张茂林;熊露;柳炳祥;周永正 申请(专利权)人: 景德镇陶瓷大学
主分类号: G09F3/02 分类号: G09F3/02
代理公司: 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 代理人: 陈娟
地址: 333400*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明公开了一种陶瓷烧结前后隐形防伪标记的建模定位方法,步骤为:1)上釉烧制前,测量陶瓷坯体总高度或者内腔深度,然后确定隐形标识区的坐标位置;2)上釉烧制后,测量陶瓷成品总高度或者内腔深度;3)以上釉烧制前、后陶瓷总高度的变化或者内腔深度的变化,计算上釉烧制后标识区的坐标位置。本发明在上釉烧制前测量记录隐形标识区在柱面坐标系中的竖坐标z和极坐标的θ角,通过计算烧结收缩比率φ值和烧制前竖坐标z,即可得到烧制后标识区的竖坐标z',由于烧制后隐形标识区在同一柱面坐标系中的θ角是不变的,所以通过定位陶瓷成品表面在柱面坐标系中竖坐标为z'极坐标为θ角的点,即可知道上釉烧制后标识区的坐标位置。操作简易,精度高。
搜索关键词: 一种 陶瓷 烧结 前后 隐形 防伪 标记 建模 定位 方法 装置
【主权项】:
1.一种陶瓷烧结前后隐形防伪标记的建模定位方法,其特征在于,步骤包括:1) 上釉烧制前,测量陶瓷坯体总高度或者内腔深度,然后确定隐形标识区的坐标位置;2) 上釉烧制后,测量陶瓷成品总高度或者内腔深度;3) 以上釉烧制前、后陶瓷总高度的变化或者内腔深度的变化,计算上釉烧制后所述标识区的坐标位置。
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